报告题目：从纳米材料到纳米器件：先进微纳加工技术
From Nanomaterials to Functional Devices: Advanced Micro/Nanofabrication Technologies
报告时间：2026年9月29日上午10点
报告人：吴争鸣博士 瑞士巴塞尔大学物理系博士现就职于德国海德堡纳米 Heidelberg Instruments（全球领先微纳加工设备制造商核心技术：无掩膜激光直写、热探针直写光刻、灰度光刻）。
新疆阿拉尔中学考入上海交通大学，本科毕业后于航空部研究所任应用工程师多年；后赴瑞士深造，获巴塞尔大学物理硕士、博士学位。博士期间深耕紫外光刻、电子束光刻纳米器件制备技术。博士毕业后任职瑞士高新技术初创企业，负责微纳加工高端设备研发与全球技术推广，长期在国际学术会议开展光刻技术专题分享，熟悉全球微纳器件制备前沿工艺、科研流程及高水平论文研究体系。
报告摘要：
光刻技术是现代微纳制造、半导体与功能器件研发的核心基础工艺，深刻支撑芯片、传感器、生物器件、微纳光子学等领域的发展。
本次报告将系统介绍主流微纳光刻技术原理与适用场景，重点解析海德堡仪器两大核心先进直写技术：
1. 无掩膜激光直写光刻（Maskless Laser Lithography）
2. 热扫描探针光刻（t-SPL）
将从分辨率、加工尺度、材料兼容性、加工效率、科研适配性多角度对比两类技术优势，并结合二维材料、微电子、光电子等真实科研案例与高水平论文成果展开讲解。同时针对当下前沿科研需求，重点介绍灰度光刻三维微纳结构加工技术，展示其在微光学、光子器件、MEMS、纳米功能器件领域的创新应用潜力，为微纳器件制备、样品工艺优化提供全新技术思路与解决方案。
